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1200℃-CVD梯度管式炉

【产品名称】1200℃-CVD梯度管式炉

【炉管尺寸】φ25--φ120mm

【加热区】300mm+300mm 

【额定温度】1200℃

【控温精度】±1℃ 

【应用领域】化学气相沉积(CVD)是指化学气体或蒸汽在基质表面反应合成涂层或纳米材料的方法,是半导体工业中应用最为广泛的用来沉积多种材料的技术,包括大范围的绝缘材料,大多数金属材料和金属合金材料。

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商品描述

【产品名称】1200℃-CVD梯度管式炉

【炉管尺寸】φ25--φ120mm

【加热区】300mm+300mm 

【额定温度】1200℃

【控温精度】±1℃ 

【应用领域】化学气相沉积(CVD)是指化学气体或蒸汽在基质表面反应合成涂层或纳米材料的方法,是半导体工业中应用最为广泛的用来沉积多种材料的技术,包括大范围的绝缘材料,大多数金属材料和金属合金材料。


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