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1700℃-CVD管式炉

CVD管式炉

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【产品名称】1700℃-CVD管式炉【炉管尺寸】φ25--φ120mm【加热区】300mm 【额定温度】1700℃【控温精度】±1℃ 【应用领域】化学气相沉积(CVD)是指化学气体或蒸汽在基质表面反应合成涂层或纳米材料的方法，是半导体工业中应用最为广泛的用来沉积多种材料的技术，包括大范围的绝缘材料，大多数金属材料和金属合金材料。
1200℃回转管式炉

回转管式炉

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【产品名称】1200℃回转管式炉【炉管尺寸】φ25--φ120mm【加热区】300mm 【额定温度】1200℃【电源电压】AC220V/50Hz 【控温精度】±1℃ 【应用领域】1200℃回转管式炉应用于高等院校、科研院所、工厂企业等行业实验室高温热处理工艺，适用于金属材料、陶瓷材料、纳米材料、半导体材料等新材料领域。
1200℃-CVD梯度管式炉

CVD管式炉

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【产品名称】1200℃-CVD梯度管式炉【炉管尺寸】φ25--φ120mm【加热区】300mm+300mm 【额定温度】1200℃【控温精度】±1℃ 【应用领域】化学气相沉积(CVD)是指化学气体或蒸汽在基质表面反应合成涂层或纳米材料的方法，是半导体工业中应用最为广泛的用来沉积多种材料的技术，包括大范围的绝缘材料，大多数金属材料和金属合金材料。
1400℃-CVD管式炉

CVD管式炉

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【产品名称】1400℃-CVD管式炉【炉管尺寸】φ25--φ120mm【加热区】300mm 【额定温度】1400℃【控温精度】±1℃ 【应用领域】化学气相沉积(CVD)是指化学气体或蒸汽在基质表面反应合成涂层或纳米材料的方法，是半导体工业中应用最为广泛的用来沉积多种材料的技术，包括大范围的绝缘材料，大多数金属材料和金属合金材料。
1200℃-CVD管式炉

CVD管式炉

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【产品名称】1200℃-CVD管式炉【炉管尺寸】φ25--φ120mm【加热区】300mm 【额定温度】1200℃【电源电压】AC220V/50Hz 【控温精度】±1℃ 【应用领域】化学气相沉积(CVD)是指化学气体或蒸汽在基质表面反应合成涂层或纳米材料的方法，是半导体工业中应用最为广泛的用来沉积多种材料的技术，包括大范围的绝缘材料，大多数金属材料和金属合金材料。
1400℃升降炉

小型升降炉

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【产品名称】1400℃升降炉【炉膛容积】2L--50L【额定温度】1400℃【电源电压】AC220V/50Hz 【控温精度】±1℃ 【应用领域】1400℃升降炉主要为高等院校、科研院所、工厂企业等行业实验室设计开发，应用于金属材料、陶瓷材料、纳米材料、半导体材料等新材料领域；也可应用于义齿行业的牙齿烧结。
1200℃升降炉

小型升降炉

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【产品名称】1200℃升降炉【炉膛容积】2L--50L【额定温度】1200℃【电源电压】AC220V/50Hz 【控温精度】±1℃ 【应用领域】1200℃升降炉主要为高等院校、科研院所、工厂企业等行业实验室设计开发，应用于金属材料、陶瓷材料、纳米材料、半导体材料等新材料领域；也可应用于义齿行业的牙齿烧结。
1700℃三温区立式管式炉

立式管式炉

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【产品名称】1700℃三温区立式管式炉【炉管尺寸】φ40--φ100mm【加热区】200mm+200mm+200mm【额定温度】1700℃【控温精度】±1℃ 【应用领域】1700℃ 三温区立式管式炉通过CE认证，最高温度1700℃，炉管采用刚玉管，三个温区采用独立的控制系统，通过温控调节可形成三个不同的梯度温场，炉盖开启式结构，PID30段程序控温，适用于精密陶瓷等新材料的热处理。
1200℃三区立式管式炉

立式管式炉

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【产品名称】1200℃三温区立式管式炉【炉管尺寸】φ25--φ120mm【加热区】300mm+300mm+300mm【额定温度】1200℃【控温精度】±1℃ 【应用领域】1200℃三温区立式管式炉通过CE认证，最高温度1200℃，炉管采用石英管，三个温区采用独立的控制系统，通过温控调节可形成三个不同的梯度温场，炉盖开启式结构，PID30段程序控温，适用于精密陶瓷等新材料的热处理。
1200℃立式管式炉

立式管式炉

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【产品名称】1200℃立式管式炉【炉管尺寸】φ25--φ120mm【加热区】300mm 【额定温度】1200℃【电源电压】AC220V/50Hz 【控温精度】±1℃ 【应用领域】1200℃立式管式炉主要为高等院校、科研院所、工厂企业等行业实验室提供高温热处理环境，可在应用于金属材料、陶瓷材料、纳米材料、半导体材料等新材料领域。
1700℃立式管式炉

立式管式炉

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【产品名称】1700℃立式管式炉【炉管尺寸】φ40--φ100mm【加热区】300mm 【额定温度】1700℃【电源电压】AC220V/50Hz 【控温精度】±1℃ 【应用领域】1700℃立式管式炉主要为高等院校、科研院所、工厂企业等行业实验室提供高温热处理环境，可在应用于金属材料、陶瓷材料、纳米材料、半导体材料等新材料领域。
大管径立式管式炉

立式管式炉

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【产品名称】1200℃大管径立式管式炉【炉管尺寸】φ300mm【加热区】1000mm 【额定温度】1200℃【电源电压】AC220V/50Hz 【控温精度】±1℃ 【应用领域】1200℃大管径立式管式炉主要为高等院校、科研院所、工厂企业等行业实验室提供高温热处理环境，可在应用于金属材料、陶瓷材料、纳米材料、半导体材料等新材料领域。